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低浓度二氧化氯气体对黑曲霉生长 抑制效果的研究
发布时间：
2024-01-11
摘要 目的 观察低浓度二氧化氯气体对黑曲霉的生长是否具有抑制作用。方法 采用培养基平皿为染菌载体， 观察低浓度 （０．２８±０．０２）ｍｇ／ｍ３ 二氧化氯气体对黑曲霉生长的影响。结果 试验组空气中二氧化氯浓度保持在 （０．２８±０．０２）ｍｇ／ｍ３ ，作用４８ｈ后对照组有霉菌菌落生长，试验组未长出菌落，仅有微量菌丝生长；作用７２和９６ｈ， 对照组和试验组均有菌落生长，对照组菌落直径及生长面积是试验组的 ２倍以上；作用 ４８、７２和 ９６ｈ，对照组霉菌 生长等级均大于试验组霉菌生长等级。结论 在试验观察期内，低浓度二氧化氯气体对黑曲霉的生长有抑制 作用。
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